在微纳加工中，刻蚀工艺有很多种，其中干法刻蚀中掩膜版是常见的工艺之一。掩膜版也分软掩膜和硬掩膜。两者主要在获得方式、成本、耐温性和是否变形上有着一定的差异。 微纳加工中Chemical Vapor Deposition是生成无机薄膜的主要材料，最后形成硬掩膜。其主要成分通常有TiN、SiN、SiO2等。在实际操作中，硬掩膜常用在多重光刻中。其

微纳加工--MEMS商业模式

微纳加工

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