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光刻掩膜版

超10年MEMS工艺经验团队主导

  • 工艺介绍

    Process introduction

    光刻掩膜版简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。


    原位芯片提供石英基片苏打玻璃基片、石英板、菲林版等掩模版。根据客户的具体需求。


  • 技术应用

    Technical application

    掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC、FPD、PCB、MEMS等。

  • 工艺能力

    Process capability

    2.5英寸-9英寸可定制

    苏打版精度±3um

    石英版精度±0.1um

  • 全面满足需求

    不仅满足常规掩模版尺寸 2”,3”、4”、5”、6”、7”,还可制作9”铬版

  • 案例展示

    设计经验丰富 加工周期短 效率高

    选择我们的4大优势

    专业为企业提供芯片设计与研发

  • 代工种类全

    代工种类齐全,质量佳

  • 全程把控

    1对1代工服务,为客户层层把关

  • 快速响应

    24小时响应,按计划交付

  • 严格保密

    签订保密协议,代工安全放心

  • 他们一直选择原位芯片

    服务全国各大高校、科研单位 助力科学研究

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    Cooperation Process

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