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Process introduction
MEMS代工--光刻掩膜版简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。 原位芯片提供石英基片、苏打玻璃基片、石英板、菲林版等掩模版。根据客户的具体需求。 |
Technical application
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC、FPD、PCB、MEMS等。 |
Process capability
3英寸-9英寸可定制 苏打版精度±0.15um 石英版精度±0.1um |
满足常规掩模版尺寸 2'，3'、4'、5'、6'、7'、9'
专业为企业提供芯片设计与研发
代工种类齐全，质量佳
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24小时响应，按计划交付
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