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Process introduction
MEMS代工--光刻掩膜版简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。 原位芯片提供石英基片、苏打玻璃基片、石英板、菲林版等掩模版。根据客户的具体需求。 |
Technical application
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC、FPD、PCB、MEMS等。 |
Process capability
2.5英寸-9英寸可定制 苏打版精度±3um 石英版精度±0.1um |
不仅满足常规掩模版尺寸 2”，3”、4”、5”、6”、7”，还可制作9”铬版
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