MEMS代工中真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或非金属以气相的形式沉积到材料表面，形成一层致密的薄膜。镀膜质量对半导体器件的功能形成至关重要。

镀膜技术主要应用在微纳半导体器件的制造过程中，金属及ITO材料主要用于电极的制备，其他非金属材料主要用于绝缘介质层和牺牲掩膜层的制备。

掌握镀膜技术：

电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、ALD原子层沉积等镀膜技术

磁控溅射：Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Zn、Mo、W、Ta 、Nb等

电子束蒸发：Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt、In、Sn等

化学沉积：SiO2、SiNx、a-Si等

硅片、石英玻璃片、蓝宝石片、PET、Pi等