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MEMS代工
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  • 光刻工艺

    光刻工艺

    光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,利用曝光和显影在光刻胶层上刻画器件结构,再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻,步进......

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  • 镀膜工艺

    镀膜工艺

    真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或非金属以气相的形式沉积到材料表面,形成一层致密的薄膜。镀膜质量对半导体器件的功能形成至关重要。......

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  • 刻蚀工艺

    刻蚀工艺

    刻蚀(Etch)是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的......

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  • 键合工艺

    键合工艺

    键合将两片表面清洁、原子级平整的同质或异质半导体材料经表面清洗和活化处理,在一定条件下直接结合,通过范德华力、分子力甚至原子力使晶片键合成为一体的技术。键......

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  • PI工艺

    PI工艺

    聚酰亚胺(PI)由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(DDE)在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。聚酰亚胺具有优良的耐高低温、电气绝缘性、粘结性、耐介......

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  • PDMS工艺

    PDMS工艺

    PDMS(聚二甲基硅氧烷),PDMS易于加工, 具有良好的化学惰性,光学透性好,成本低,是一种广泛用于微流控等领域的聚合物材料。原位芯片提供多种微流控模板,微流控器件的制作,为......

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  • TSV通孔

    TSV通孔

    TSV技术(穿透硅通孔技术),一般简称硅通孔技术,是三维集成电路中堆叠芯片实现互连的一种新的技术解决方案。TSV能够使芯片在三维方向堆叠的密度最大、芯片之间的互连线......

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  • 光刻掩膜版

    光刻掩膜版

    光刻掩膜版简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片......

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  • 其他工艺

    其他工艺

    原位芯片提供全套的MEMS工艺,包含切割、硅片清洗、封装、测试等委托服务。我们秉持“更好的芯片,更好的世界”的使命,为高校科研、企业科研机构提供优质的科研服务,用......

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    2017年1月18日苏州股权交易中心企业集中挂牌仪式在园区东沙湖股权投资中心隆重举办。苏州原位芯片科技有限责任公司(企业代码:900107)成功成为此次挂牌企业。国务院总理李克强1月11日主持召开国务院常务会议,确定规范发展区域性股权市场的政策措施,拓宽中小微企业融资渠道。苏州原位芯片科技有限责任公司董事王建平、总经理马硕、技术总监王新亮和运营总监胡慧珊等作为公司代表出席此次挂牌仪式。从左往右依次为运营总监胡慧珊、董事王建

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