世界上第一台双光子灰度光刻系统

每当看到优质的光刻加工系统/设备，就会有眼前一亮的感觉，就像世界上第一台双光子灰度光刻系统---Nanoscribe Quantum X，用于折射和衍射微光学的无掩微纳加工。

首先，能成为世界上第一台设备就已经很了不起，更何况是双光子灰度光刻系统。该光刻加工系统具有2.5D灰度光刻的工业性能。双光子灰度光刻系统是2.5D自由曲面微光学元件、微透镜阵列和多级衍射光学元件的最佳工具。

主要特点

具有完全设计自由度和亚微米分辨率的高速2.5D微加工；用于光学级光滑表面的超快体素调制速率和 100 nm；自动自校准程序，用于最精确的激光功率控制和定位；范围广泛的基板和晶圆，最大可达6英寸；触摸屏和遥控器确保轻松的工作流程；通过作业队列连续执行各种打印作业。

光刻加工 源自Nanoscribe

这是一家来自德国的企业，具有纳米精度的增材制造技术、用于工业和研究的创新和定制解决方案。世界上第一台双光子灰度光刻系统就是出自他们。专为工业生产和复制过程中的快速原型制作和母版制作而设计。这种在光刻加工中的无掩模光刻系统重新定义了自由形式微光学器件、微透镜阵列和多级衍射光学元件的制造。

这台光刻加工--双光子灰度光刻系统使用高速同步激光功率调制沿一个扫描平面控制体素大小。以这种方式，可以产生复杂的形状，并且可以在一个扫描场内实现可变的特征高度。无需额外的光刻步骤或掩模制造，就可以在长达 6 英寸的晶圆基板上印刷离散和准确的步骤以及基本连续的形貌。

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