EVG集团提供的光刻系统

EVG 在光刻技术方面的关键竞争力在于其掩模对准器的高通量接触和接近曝光能力，以及其新开发的、高度通用的无掩模曝光光刻系统。这对于光刻加工来说，无疑是利好的设备。EV Group 更是半导体、MEMS、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造领域大批量生产设备和工艺解决方案的领先供应商。

作为光刻领域公认的市场和技术领导者，光刻加工设备、光刻胶涂布机等系统都受到了市场的认可。凭借在奥地利总部以及北美和亚洲的最先进的应用实验室和洁净室，EVG 专注于为其全球研发和生产客户及合作伙伴提供卓越的工艺专业知识——从最初的开发开始直至在客户现场进行最终集成。

EVG 成立于八十年代，为全球客户和合作伙伴组成的复杂网络提供服务和支持，在全球拥有 1100 多名员工，并在美国、日本、韩国、中国大陆和台湾设有全资子公司。

EVG 在光刻技术方面主要是提高光刻加工能力，这些能力得到其抗蚀剂涂层和抗蚀剂开发系统的补充，该系统具有先进的内部工艺能力和动手开发技能。EVG 的大多数光刻设备平台都支持 300 毫米，可以完全集成到 EVG 的 HERCULES 光刻轨道系统中，并辅以用于顶部到底部对齐验证的计量工具。

EVG 不断展望未来的市场趋势，从而提供特定应用的解决方案，特别是在先进封装、MEMS、化合物半导体、光子学和生物医学市场，在这些市场中，EVG 的工艺和材料专业知识——源自对各种抗蚀剂材料的广泛研究——是无与伦比。了解客户需求并提供高效的全球支持是 EVG 光刻解决方案成功的重要因素。