电子束光刻遇到SEM成像

在我们的日常实验中，如果光刻加工后需要对成品做呈像处理，那么电子束光刻和SEM分析扫描电子显微镜的完美结合，将会大大节约时间，在同一台设备上完成项目所需。当然，这是针对光刻加工中同时需要电子束光刻和SEM呈像的人员来说。如果能有这二合一的设备，应该是不错的选择。理想赋予实践，PIONEER Two 的概念定义了一类新的独特的仪器，是第一个真正的 EBL/SEM 混合可用的光刻加工设备。具有诸如

·尖端的集成热场发射（TFE，Gemini column）技术

·各种检测器（ET-SE、inlens SE、inlens EsB、AsB、EDX ...）用于最佳 EBL 标记对准、SEM 成像和 SEM 分析

·现代最高精度激光干涉仪控制平台

·“写入和查看”配置（“板载”样品旋转倾斜模块）

·所有研究预算的模块化和最佳性价比，以及

·紧凑的系统架构，占地面积小，

·激光干涉仪控制平台的照片

PIONEER 两个激光干涉仪控制平台，集成旋转/倾斜功能，用于专业 EBL 和 SEM 成像 源自raith

该设备将专业EBL和SEM成像的所有最高性能成分集成到一个完整的交钥匙系统中。多功能性、稳健性和用户友好性使 PIONEER Two 适合所有那些不仅寻求“打印”和重新检查其纳米结构，而且还希望使用具有 SEM 成像和化学或结构分析功能的分析工具或生命科学。

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