光刻加工中EBL设备

光刻加工中的电子束光刻电子束光刻，利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直写或投影复印图形的光刻技术。电子束光刻，英文缩写为EBL。在高校、科研院所的科研中得到广泛使用。 

Raith公司在光刻加工设备的制造上有着自己独特的优势，并在该领域有着自己的研究成果。像eLINE Plus 的先进光刻基础设施支持超高分辨率电子束光刻和大面积纳米制造。不同于以往光刻加工设备，eLINE Plus 的多功能性将电子束光刻、纳米工程、超高分辨率和大面积 SEM 成像领域结合在一起，包括用于计量和过程控制的专用功能。

eLINE Plus 提供以下智能构建块和概念：

·先进的 30 kV TFE 电子光柱技术

·创新独特的无针迹书写策略

·自动化晶圆级计量和过程控制的专用功能

·激光干涉仪载物台

·多探测器概念

·多端口真空室

·开放可升级的平台理念

用于纳米工程的 Gemini 型电子束柱的照片

Gemini 型电子束色谱柱可提供最广泛的纳米工程应用带宽

图片源自Raith

该光刻加工设备旨在实现超越经典电子束光刻的多技术原位纳米制造领域的终极灵活性和多功能性。该工具配备了所有纳米工程选项，与“制造、搬迁、修改、测量”工作流程保持一致。

创新的光刻加工系统架构得到了独特的无针迹错误写入模式等一系列进一步选项的补充，包括无缝集成的纳米操纵器，例如用于纳米探测或纳米轮廓测量以及用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统（ FEBIP）。凭借这些功能，eLINE Plus 是目前世界上最通用、最独特的纳米工程 EBL 系统。

原位芯片提供光刻加工服务，助力高校、科研院所实现更多科研可能。