光刻加工--电子束光刻设备

原位芯片最近一直在给光刻加工工艺工程师们推荐光刻设备。其实我们的目的很简单，就是通过了解国内外优秀的光刻设备，对比当下自己在光刻加工中使用的设备之间的差距，以便在有引进新设备的时候，有更多更好的选择。

像RAITH150 Two 它被世界各地的研究和纳米技术中心使用，并已证明其在24/7 全天候使用中的保持性能的稳定。 在光刻加工中这两个电子束写入器旨在帮助从以单一设备为导向的研究向纳米设备的小批量制造过渡，从而弥合学术和工业研发之间的差距，因为它具有快速制作工业设备原型的能力。应用程序。

超高分辨率和隔热罩的电子束写入器的特点如下：

·超高分辨率电子束光刻

·自动化晶圆级电子束写入

·30 kV Gemini 色谱柱技术

·低电压曝光和成像

·隔热罩，和独特的分房设置，

·加载电子束写入器RAITH150的照片两个

用于将样品自动转移到RAITH150两室的 8 英寸晶圆的装载程序

光刻加工设备  图片源自RAITH

光刻加工中该产品可以曝光小于5纳米的结构，并且可以处理从几毫米到8 英寸晶圆的样品尺寸。凭借其低kV成像能力，该光刻加工设备电子束写入器还支持表面敏感的高分辨率检测和过程控制。利用用于 SEM 成像和尺寸计量的所有软件功能，可以使用与设备制造相同的工具有效地缩短设备优化过程。

优质的光刻设备都载有配套的软件系统，集成了直观的纳米加工软件NANOSUITE。该软件确保即使是没有经验的用户也可以立即控制整个 EBL 过程，同时还允许通过一系列复杂的功能进行高级纳米制造。Nanosuite 具有真正的多用户管理软件，因此所有用户都能找到“他们的”系统，就像他们离开时一样——不受任何其他用户的“干扰”！

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