光刻加工设备--掩模光刻机

光刻加工的工艺步骤中，掩模是在对齐/对准步骤中出现。涉及的设备就是掩模光刻机。掩模对准主要用于曝光光可限定的材料。设备允许使用 4” 面罩、5” 面罩、7” 面罩、透明胶片、遮罩或只是泛光曝光。

光刻加工设备 掩膜对准光刻机 图片源自网络

掩模设备的能力：薄抗蚀剂中的最小特征尺寸分辨率为 2 µm；宽高比 1:3 相当标准；基板厚度可能为 200 µm 至 4 mm

硬件细节：宽带光源在 405 nm 峰值处校准为 20 mJ/sec。总宽带剂量约 30 mJ/sec；4" 和 6" 夹头；4"、5" 和 7" 面罩支架；软、硬和真空接触能力；顶面对齐（无背面或键合对齐）；10 毫米载物台行程，150 毫米显微镜物镜行程，带分场视图相机选项。

光刻加工中掩模对基材要求：完整的 4" 和 6" 晶圆标准；此面罩矫正器中不允许有碎片。对于作品，请改用 MJB3；如果晶圆有通孔等，则可能需要安装。创建服务台票以获得帮助；基板厚度可能为 200 µm 至 4 mm。

市面上有不同品牌的掩膜对准光刻机，及其大多是进口欧美，普通常规设备的售价在一百多万左右，高阶一点的设备价格更高。国内的高校，在条件允许的情况下，会采购这样的设备供科学实验使用。国外的高校选择海德堡光刻机系列的比较多，国内高校根据实际经济能力，购买其他进口光刻加工设备。