光刻加工掩膜版设备

在光刻加工中，掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游行业生产流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一。

光刻加工设备 光刻掩膜版 图片源自网络

产品主要应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业，是下游行业产品制程中的关键工具。中国市场上客户包括面板领域的京东方、天马、华星光电、群创光电、瀚宇彩晶、龙腾光电、信利、中电熊猫、维信诺等；在半导体芯片领域，发行人已开发中芯国际、英特尔、艾克尔、颀邦科技、长电科技、士兰微等。

光刻加工中掩膜版设备用于曝光光可限定的上小片高达3"的材料的直径，它仅接受4”硬掩模或更小。透明胶片，阴影掩模，或整片曝光也可以使用。

掩膜版设备的基本能力

4-5 µm 最小特征尺寸分辨率在薄抗蚀剂中；宽高比 1:3 可能；基板厚度可能为 200 µm 至 4 mm

掩膜版设备的细节

宽带光源在 405 nm 峰值处校准为 20 mJ/sec。总宽带剂量约 30 mJ/sec；件夹头和 3" 夹头

3" 和 4" 面罩支架；洪水暴露、软、硬和真空接触能力；；只能进行顶部对齐；10 mm 载物台行程，75 mm 显微镜物镜行程

基材要求

全 3" 和晶圆片标准；如果晶圆有通孔等，则可能需要安装。创建服务台票以获得帮助；基板厚度可能为 200 µm 至 4 mm；经工具工程师批准，可使用较厚的基材或PDMS

原位芯片提供光刻加工服务，我们已经为全国高校和科研机构，提供光刻加工服务。我们的业务遍布中国，光刻加工经验丰富。