光刻加工中使用到的清洗设备

在光刻加工工艺中，由于材料本身以及烘烤光刻胶后需要进行表面处理。这就需要使用清洗设备，对材料表面进行去污，保持清洁。这就少不了清洁设备进行。常用的光刻加工清洗设备为紫外线臭氧清洁系统。主要包含：

·表面清洁

·用于薄膜沉积和表面处理的表面制备

·紫外线固化

·表面杀菌

·提高表面亲水性

·去除表面单层

光刻加工清洁设备 紫外臭氧清洁系统 图片源自网络

清洁系统是一种用于半导体和光学表面紫外线臭氧清洁的集成系统。该工艺为光刻加工提供了一个干净、不含碳氢化合物的光学表面，显着改善了薄膜和 UV 树脂的粘附特性。同时应用臭氧和紫外线，可高效去除接触角低至 5 度（取决于初始清洁和基材材料）的残留有机物和碳污染物。

另一种光刻加工清洗设备是一种深紫外线曝光工具，可用于臭氧清洁、硬烤光刻胶和表面处理。由于没有等离子体，它对于清洁非常精细的2D材料特别有用。通过紫外线臭氧进行表面清洁，尤其适用于精细的 2D 材料、通过臭氧蚀刻聚合物、通过深紫外线曝光的正光刻胶（基于酚醛清漆）交联、PDMS 表面改性，低温熔接的表面准备。材料要求为：一块150毫米的晶圆，最厚70毫米。

蚀刻率

这是一种高度依赖于局部负载的各向同性蚀刻。小的孤立特征的蚀刻速度比覆盖膜快 2-4 倍。毯式 SPR 955 的 100 毫米晶圆：~100 纳米/小时。

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