光刻加工群集式设备是怎样的？

我们知道，一个典型光刻加工工艺的一般处理步骤为：基板准备，光刻胶旋涂，预烘烤，曝光，曝光后烘烤，显影和后烘烤。在国内呈流水式产线。而在国外，大多是集成式工具设备，方便高效。介绍一套群集式光刻设备。

光刻加工群集设备 图片源自网络

光刻加工群集式工具是一个自动化的光致抗蚀剂 涂布，烘烤，蒸气素，剥离和显影工具。它可以同时运行多达 25 个晶片的完整 4" 和 6" 盒。它能够同时运行多个路径（即，从两个不同的盒式磁带进行涂层和显影）。它自动泵送SPR 220 -(3.0) 和SPR 955光刻胶。其他抗蚀剂可以设置为从注射器自动分配。旋转器的封闭盖选项有助于获得更均匀的侧壁涂层。 HMDS是通过蒸汽底漆应用的。两个开发人员都兼容 CMOS（MF 319和MF 300）。整个过程中显影剂温度控制在0.1°C以内。光刻加工自动化的能力：自动旋涂、自动喷涂显影、自动蒸汽灌注、光刻胶剥离。适用于4" 和 6"的 晶圆

硬件细节：RC-8 旋涂机，带回转封闭盖选项、配备仅适用于 4" 晶圆的背面冲洗臂的旋转器；4" 夹头可容纳 6"；SPR 220 -(3.0) 和SPR 955 0.9光刻胶自动分配。所有其他批准的抗蚀剂都可以使用 EFD 分配选项进行涂覆。配备MF 300和MF 319 的喷雾显影模块。热板炉和HMDS 蒸汽底漆室。全自动机器人搬运，玻璃晶圆不适合烘烤。

光刻加工的自动化，应该是未来的趋势。只是目前国内还是以光刻加工工艺工程师操作为主。自动和人工肯定各有利弊，毕竟自动化的经验还是没有人工积累的久。

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