光刻加工的工艺流

光刻加工允许对基板进行图案化，以用于广泛的应用，例如 MEMS、光学和微流体。我们的光刻工作流程包括一系列工具，包括用于光刻胶开发的旋涂机、加热板、掩模对准器和通风柜。我们知道光刻加工，但却不知道，光刻加工工艺是有工艺流的。像ANFF-Q 洁净室中有四个独立光刻工艺流。

AZ流：该流允许用户使用 AZ 系列光刻胶对基板进行图案化。主要进行金属剥离的图案化、干蚀刻掩模、湿蚀刻掩模的光刻加工。适合4” 和 6” 圆形晶圆；有关其他尺寸的基材，可以使用其他 AZ 系列光刻胶

光刻加工 AZ流 图片源自网络

相关设备为旋涂机 (Sawatec SM-200)：最高 6000 rpm，边缘珠去除和背面冲洗，自动抗蚀剂分配。加热板 (Sawatec HP-200)：最高 250 °C，带升降销和玻璃盖。HMDS 蒸气灌注可在同一腔室中使用。掩模对准器 (EVG620)：正面和背面对齐。

光刻加工 SU8流 图片源自网络

SU8流：该流程允许用户使用 SU8 系列光刻胶对基板进行图案化。用于光刻加工的软光刻工艺的 SU8 微流体模具。使用SU8 聚合物，通常为 SU8 2000 和 SU8 3000 系列。适合4” 和 6” 圆形晶圆。旋涂机 (SPS Polos SPIN 1 50i)：最高 12 000 rpm，无边缘珠去除可用。。带铝顶的电炉 (Torrey Pines HP51A)：最高 450 °C。提供搅拌功能。掩模对准器 (EVG620)：正面和背面对