近日，一条新闻刷爆了《苏州：造就一支高质量发展“突击队”！》朋友圈。文中展现了多个高新技术产业的发展，体现了苏州政府对高新技术企业发展的高度重视！作为推动科技创新的“主力军”，一批高新技术企业正加快形成苏州创新发展的新优势，引领带动创新型企业集群建设，成为苏州高质量发展走在前列的一支“突击队”。苏州市高新技术企业数

MEMS代工

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最近，总有老师跟我说，科研的世界，真的是太难了！不过我觉得其实科研者的世界，也有不少事情挺容易的，比如：容易胖、容易闷，容易头发变稀少；容易困、容易丑，容易变成单身狗...哦对了还有就是做我们的客户，当我们的上帝，挺容易有惊喜的！原位芯片成立4年多，得到了许多科研机构以及大学老师的认可。为了助力我国科学研究，回馈新老客户，原位芯片微纳

光刻是生产半导体元件的一个关键步骤，即如何将印在光掩膜上的外形结构转移到基质的表面上。光刻工艺过程与印刷术中的平版印刷的工艺过程类似。光刻工艺主要步骤准备基底在涂布光阻剂之前，先把硅片进行处理，经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分，并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物；涂布光阻剂(photo resist)将硅片放在

MEMS代工中的刻蚀就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法，有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去，从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形。刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。干法刻蚀把硅片表面曝露于气态中产生的等离子体，等离子体通过光刻胶中开出的窗口，与硅片发生物理或化学反应（或这两种反应），从