浸入式光刻加工系统

光刻加工系统使用光在硅晶片上制造电路图案，这是芯片制造过程中的关键步骤。阿斯麦尔的光刻系统这些模式作为单个集成电路连接在一起，可以提供计算或存储功能。光刻系统可以在世界上每家主要芯片制造公司的工厂中找到。

 阿斯麦尔光刻设备

全球芯片的短缺，一方面是因为在“COVID-19 大流行期间的在线转移导致了“半导体的爆炸性增长周期”“虽然该行业已采取措施解决近期的限制，但生态系统仍可能需要几年时间才能解决代工产能、基板和组件的短缺问题。”相关行业专家如是说。另一方面，人们日益增加的需求息息相关。光刻加工个、光刻机和光刻系统就尤为重要。

应对这种短缺需要对整个产品组合进行整体响应，包括DUV、EUV、计量和检测系统、软件 和服务。阿斯麦尔可以做到。其光刻加工系统对于满足这种激增的需求至关重要，特别是在提供一些更先进的芯片方面，我们的 EUV 系统在这些芯片中发挥着重要作用，可负担得起的制造。阿斯麦尔ASML 的深紫外 (DUV) 光刻加工系统深入紫外光谱以打印构成微芯片基础的微小特征。

浸入式光刻加工系统是该行业的主力军。我们最新的 NXT 机器已显示出每天运行超过 6,000 个晶圆的能力，在 12 个月内生产率平均提高 5%，支持我们客户的价值需求。我们继续创新我们的沉浸式系统以满足未来节点的要求，受益于我们的 EUV 计划在研发方面的共性，同时通过系统节点增强包升级确保平台的可扩展性。由于这些软件包。TWINSCAN NXT:2050i 是一种高生产率、双级浸没式光刻工具，专为在亚 5 纳米节点上批量生产 300 毫米晶圆而设计。

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