光刻加工--无掩模曝光技术系统

如我们所知EVG提供精准光刻加工系统，如同他们介绍的采用EV Group的MLE无掩模曝光技术的LITHOSCALE系统通过结合支持实时数据传输和即时曝光、高结构分辨率和吞吐量可扩展性的强大数字处理来解决传统瓶颈。这一台好的光刻加工设备，可以达到事半功倍的效果。

据悉，其无掩模方法消除了与掩模相关的耗材，而带有可调固态激光源的曝光系统设计用于高冗余和长寿命稳定性，具有独特的自动校准功能，可最大限度地减少维护。光刻加工系统拥有强大的实时数字处理支持从设计文件到基板的即时曝光，从而避免每个数字掩模版图的数小时转换时间。具有高分辨率 (<2µm L/S)、整个基板表面的动态芯片级可寻址曝光，可实现灵活的无耗材处理和低拥有成本。

该光刻加工系统利用具有可见光和红外功能的专用物镜以及可容纳最大300毫米晶圆的专有卡盘设计，集成了全晶圆顶部和背面对准。该系统具有自动对焦的动态对准模式，以适应基材材料和表面变化。精细控制焦点水平位置的能力使侧壁保持陡峭以及抗蚀剂的所需3D轮廓。同时，防止边缘顶部和基脚。大工作距离和自动自适应对焦可确保整个曝光表面的图案均匀性。它还提供个性化的芯片加工能力，同时快速的全场定位和动态对齐为各种基板尺寸和形状提供了高可扩展性。

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