EVG无掩模曝光光刻加工系统

光刻加工的效率、质量和光刻工程师的经验以及光刻加工设备有很大的关系。优质的光刻系统/平台虽然价格不菲，但确实方便、高效。很多光刻设备厂商，也在努力满足日益精进的光刻加工需求。像EVG公司提供的可容纳最大 300 毫米晶圆的各种微加工应用就是一个很好的例子。

根据EVG公司介绍，LITHOSCALE 是一种革命性的、高度通用的无掩模曝光光刻平台，旨在满足需要高度灵活性或产品变化的市场和应用的光刻需求，例如先进封装、MEMS、生物医学和 IC 基板制造。作为世界上第一个用于大批量制造的高度可扩展的无掩模光刻技术，MLE 提供了无与伦比的灵活性，可实现极短的新设备开发周期。

光刻加工设备 图片源自EVG

光刻加工设备特征

1·晶圆/基板尺寸高达 300 毫米/12 英寸

2·分辨率能力 < 2 µm L/S

3·配备具有高端衍射极限光学元件的 MLE 技术

4·375 纳米和/或 405 纳米波长的曝光光谱；用户可定义为单一、宽带或任何类型的波长混合

5·定期监控和自动校准固态光源，确保其长寿命稳定性和高冗余

6·支持顶部和底部 VIS 和 IR 对准功能的高级对准模式

7·焦点控制深度 (DoF) < 24 µm

8·自适应自动对焦控制 (AF) < 100 µm

9·经过现场验证的高精度对准平台，嵌入高科技机电一体化和校准传感器，确保整个系统的稳定性

好的设备还是需要软件系统进行补偿，其高级软件功能包括：

1.动态芯片级注释

2.先进的失真补偿

3.掩模文件传输和配方执行通过主机/每个晶圆的灵活

4.布局变换功能

5.替代格式文件支持：Gerber、ODB++、OASIS

6.自动非接触式楔块补偿序列

原位芯片依托华东地区纳米线，提供光刻加工服务。公司拥有十多年工艺经验的专业团队，为高校、科研机构提供高效光刻加工服务。

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