设备让光刻加工纳米图案变得简单

光刻加工依靠设备完成，设备的好坏在某种程度上也会决定工艺结果的成败。如果在光刻加工、纳米图案的制备中，获得最简单、最经济的方式，可以通过一台优秀的设备，在起步阶段就满足了需求。当第一次看到ELPHY的介绍时，就觉得科技改变人类，纳米图案的光刻加工变得更容易了。

ELPHY 提出它的升级套件，也称为“光刻附件”，几乎可以将任何 SEM 或 FIB 转换为纳米光刻加工或纳米制造站，以充分利用其纳米图案化潜力——而不会牺牲其任何原始功能！具有诸如：

·专业的 GDSII 文件处理

·图像功能上的图案化

·FLEXposure 定向扫描模式

·远程访问相关 SEM 或 FIB 参数

·光束空白和载物台控制

·复杂批处理作业自动化的位置列表（包括脚本）

·先进的光刻功能，例如 3D 工艺或邻近效应校正

·复杂的 FIB 特定的纳米图案化功能，以及

·独特的硬件概念提供相当于 16 位以上的主 DAC，仅用于亚纳米图案布局控制

光刻加工 纳米加工设备 图片源自ELPHY 设备公司

当适应这些工具时，ELPHY 附件在潜在纳米制造应用的自动化程度、带宽和复杂性方面显着增强了 SEM 或 FIB-SEM 。

ELPHY 具有与Raith 交钥匙系统相同的NANOSUITE 软件平台，因此受益于专用 EBL 仪器附带的所有综合软件模块和功能。ELPHY 适用于 SEM、FIB、FIB-SEM 或 HIM，能够处理各种纳米图案化任务，从简单的单写入场曝光到复杂且高度自动化的多级和多场图案化序列或计量工作。超过100人年的软件开发已进入ELPHY软件。

本文仅从设备给工艺带去效率的角度介绍设备，和大家一起放眼世界，了解更多和光刻加工有关的设备，但我们不卖设备。原位芯片提供光刻加工服务，分享和微纳代工有关的信息。

信息源自ELPHY