光刻加工的最早起源

光刻加工技术的发展是从美军负责寻找一种减小电子电路尺寸的方法，以便在近炸引信内部有限的可用空间内更好地安装必要的电路需求中发展而来。而光刻的起源可以追述到更早的时候。

光刻加工 图片源自佳能

光刻源自于国外，英译为 lithography，词根都起源于希腊语，分别表示“光”、“石头”和“书写”。正如由它们合成的名称所暗示的那样，光刻是一种印刷方法（最初基于使用石灰石印刷版），其中光起着至关重要的作用。在 1820 年代，尼埃普斯发明了一种照相工艺，该工艺使用天然沥青“犹地亚沥青”作为第一种光刻胶. 金属、玻璃或石头上的一层薄薄的沥青在暴露于光的地方变得更难溶解。

然后可以用合适的溶剂冲洗掉未曝光的部分，露出下面的材料，然后在酸浴中对其进行化学蚀刻以生产印版。沥青的光敏性很差，需要很长时间的曝光，但尽管后来引入了更敏感的替代品，但它的低成本和对强酸的极好抵抗力将其商业寿命延长到 20 世纪初。1940 年，有学者使用重氮萘醌制造了一种正性光刻胶，其作用相反：涂层最初是不溶的，在暴露于光的地方变得可溶。1954 年，Louis Plambeck Jr. 开发了 Dycryl 聚合物凸版印版，使制版过程更快。光刻的前身来源大致是这样一个历史过程。

光学光刻加工（或光刻）是纳米光刻领域最重要和最流行的技术之一。