光刻的来源与历史

光刻加工的需求是随着光刻技术的普及和产品制作，应运而生的。光刻技术和设备，在我国的发展都是相对较晚，且技术能力、设备制造能力是欠缺的。很多人都不知道光刻技术是如何发展而来的。光刻技术的诞生，还是和美军的需求有关。

光刻加工 图片源自尼康

早在1952 年，美国军方指派美国国家标准局（后来的美国陆军钻石军械引信实验室，最终合并为现在的陆军研究实验室）的Jay W. Lathrop 和 James R. Nall负责寻找一种减小电子电路尺寸的方法，以便在近炸引信内部有限的可用空间内更好地安装必要的电路。受到光刻胶应用的启发，光刻胶是一种用于标记金属飞机机翼铆钉孔边界的光敏液体，纳尔确定可以使用类似的工艺来保护晶体管中的锗，甚至可以用光在表面上形成图案。在开发过程中，Lathrop 和 Nall 成功地使用这种技术创建了带有晶体管的 2D 小型化混合集成电路。1958 年，在华盛顿特区举行的 IRE 电子器件专业组 (PGED) 会议期间，他们发表了第一篇论文，描述了使用摄影技术制造晶体管，并采用了“光刻”一词来描述该过程，标志着首次公开使用该术语来描述半导体器件图案化。

尽管电子元件的光刻涉及蚀刻金属复制品，而不是像传统的平版印刷那样蚀刻石头以产生“母版”，但 Lathrop 和 Nall 选择了术语“光刻”而不是“光刻”，因为前者听起来是“高科技”。 ” 会议一年后，Lathrop 和 Nall 的光刻专利于 1959 年 6 月 9 日正式获得批准。光刻后来有助于开发第一个半导体 IC 以及第一个微芯片。