光刻加工TCNL

热化学纳米光刻加工（TCNL）或热化学扫描探针光刻加工（TC-SPL）是扫描探针显微术的基于纳米光刻技术，其触发器热活化的化学反应来改变化学功能或相的表面。通过快速探针扫描可以非常快速地写入化学变化，因为没有质量从尖端转移到表面，并且写入速度仅受热传递率的限制。TCNL 是由佐治亚理工学院的一个小组于 2007 年发明的。里 多和合作者证明，TCNL 可以在高达 1 毫米/秒的扫描速度下产生特征尺寸低至 12 纳米的局部化学变化。

TCNL 于 2013 年用于创建蒙娜丽莎的纳米级复制品，具有不同的探针尖端温度。这幅名为Mini Lisa的肖像画长 30 微米（0.0012 英寸），约为原件尺寸的 1/25,000。该迷你莉莎只有30微米（0.0012英寸）宽，约三分之一人类头发的宽度。

物理学家珍妮弗·柯蒂斯说，实验表明，第一次，这是不仅能够在纳米尺度上操纵分子，但也精确控制分子的数量。她说，随着 TCNL 的发展，TCNL“应该能够在不同领域进行广泛的以前无法进行的实验”。该项目也被大众媒体提及。

与其他光刻加工技术的比较

热机械扫描探针光刻加工依赖于热量和力的应用来创建用于图案化目的的压痕。热扫描探针光刻加工(t-SPL) 专门用于从基板上去除材料，而无意以化学方式改变所创建的形貌。局部氧化纳米光刻依赖于探针尖端周围水弯液面中的氧化反应。

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