光刻加工之模板、量子光刻

光刻加工工艺有很多种，电子束光刻、步进式光刻、接触式、接近式光刻加工技术是我们常见的光刻加工。由于设备的限制，有些光刻工艺我们不常接触过。纳米球光刻、中性粒子光刻、等离子光刻、质子束书写、模板光刻、量子光，也是我们不常接触的技术。光学光刻（或光刻加工）是纳米光刻领域最重要和最流行的技术之一。光刻包含几种重要的衍生技术，所有这些技术都使用非常短的光波长来改变某些分子的溶解度，使它们在溶液中被冲走，留下所需的结构。

光刻加工 EUV光刻 图片源自网络

模板光刻加工是一种使用纳米尺寸孔径作为阴影掩模制造纳米尺度图案的无抗蚀剂和并行方法。

量子光刻加工（QOL），能够以1米纳米的分辨率写一个衍射无限方法通过光学手段，使用红色激光二极管（λ= 650纳米）在3处获得.Complex图案像几何图形和字母抗蚀剂基板上的分辨率。该方法应用于纳米图案石墨烯，分辨率为 20 nm。