光刻加工中光纳米压印光刻

在光刻加工中的光纳米压印 (P-NIL) ，将光 (UV)可固化液体抗蚀剂应用于样品基板，模具通常由透明材料制成，如熔融石英或PDMS。模具和基板压在一起后，抗蚀剂在紫外线下固化并变成固体。模具分离后，可以使用类似的图案转移工艺将抗蚀剂中的图案转移到下面的材料上。在真空中使用紫外线透明模具是困难的，因为无法使用真空吸盘来固定模具。

光刻加工 光刻半导体

无抗蚀剂直接热纳米压印光刻

与上述纳米压印方法不同，光刻加工另一无抗蚀剂直接热纳米压印不需要额外的蚀刻步骤来将图案从压印抗蚀剂转移到器件层。

在典型的光刻加工工艺中，首先使用光刻法定义光刻胶图案。随后从抗蚀剂图案复制模制聚二甲基硅氧烷 ( PDMS ) 弹性体印模。此外，单步纳米压印在高温和压力下直接将薄膜材料成型为所需的器件几何形状。压印材料应具有合适的软化特性以填充图案。具有高折射率和宽透明窗口的非晶半导体（例如硫属化物玻璃）是光学/光子器件压印的理想材料。

这种直接压印图案化方法提供了单片集成替代方案，具有潜在提高的吞吐量和产量，并且还可以在使用传统光刻图案化方法无法访问的大基板区域上实现设备的卷对卷处理。