光刻加工中的直写光刻

在光刻领域，光刻加工不难，难在光刻的设备。由于很多原因，导致目前我国光刻设备的自主拥有品牌较少，相应的光刻技术也非常落后。像直写光刻就是比较典型的例子。直写光刻的设备研发难度高，技术要求也非常高，多半被国外的厂商垄断。进口，是最便捷的选择。

光刻加工 直写光刻 无掩膜光刻 图片源自网络 

直写光刻（也称为无掩模光刻）是指任何能够改变化学性质、按照预定布局或图案在不同表面上沉积、去除、分配或处理各种类型材料的技术或工艺。有多种方法可以实现所需的图案，它们可以大致分为加法和减法技术。喷墨印刷、蘸笔纳米光刻 (DPN) 和微笔等添加剂技术可根据 CAD 布局将材料添加到基材上。诸如聚焦离子束 (FIB) 和激光微加工之类的减法技术分别使用离子束和激光源从基板上选择性地去除材料。

其他技术，例如电子束光刻、无掩模光刻、热扫描探针光刻和纳米压印光刻，使用化学或物理方法改变薄膜的成分以形成各种几何形状的图案。