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尺寸：8寸及以下 镀膜：蒸发Ti、Ni、Cr、Ag、Ge等普通金属薄膜，Pd、Pt、Au等贵重金属，部分金属最大蒸发厚度可至1000nm。 光刻：最小线宽≥2um，衬底厚度≤3mm，对准精度±1um，套刻类型正面套刻、背面套刻 刻蚀：深宽比5:1 |
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