无掩膜版光刻加工设备

我们知道，在传统的光刻加工中，需要制造或者购买光掩模，并使用步进机或掩模对准器将CAD图案转移到涂有抗蚀剂的晶片或板上进行光刻加工。这是成熟的光掩模工艺确实是大批量制造亚微米尺寸设计特征的唯一可行方法。

图片源自海德堡 光刻加工设备

然而，还有另一种可用的光刻加工技术，它构成了许多其他应用的完美工具：无掩模光刻。这种先进的、快速的、高度精确且用途广泛的技术非常适合用于研究与开发或原型设计环境，其中包括具有超过一微米特征的设计。如果这描述了您的工作领域并且您熟悉光掩模工艺的缺点，那么有一种技术可以将光刻加工所设计的直接转移到晶圆上，形成图案，同时完全消除掩模对准器和光掩模工艺。

海德堡提供的无掩模对准器 (MLA) 和直写 (DWL) 系列激光光刻加工工具。，在无掩模光刻加工中，借助空间光调制器 (SLM) 将图案直接曝光到基板表面上，该调制器本质上用作可编程掩模。系统获取您的设计文件并简单地将图案“写入”到涂有抗蚀剂的基板上。这种直接写入过程能够跳过整个耗时且昂贵的光掩模过程及其涉及的所有过程：相反，可以重新设计CAD绘图（如果有必要，可以一次又一次地）并立即重新曝光图案。

正如海德堡所说，他们提供微型和纳米加工生产领先的解决方案，以满足客户特定的直写光刻加工要求，他们与客户建立长期的合作伙伴关系，帮助他们为今天和未来的世界提供特定的应用，同时也支持整个产品生命周期的系统解决方案。

在光刻加工、直写设备领域为了保持在行业的前沿，海德堡不断扩展在微纳米加工制造方面的丰富知识，并努力提高在机械、电子、光学和软件方面的专业工程技能。这种结合独特的专业知识使海德堡能够开发出超越传统光刻机并为我们的客户提供支持的独家解决方案，提供更加便捷的光刻加工技术。

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