光刻加工中使用到的设备有哪些？

MEMS代工中，光刻加工是一项需求量比较大的业务。光刻加工主要使用的是光刻机，目前我们使用的多为国产光刻机。光刻加工工艺步骤多且齐全，光刻是作为功能齐全的模块的一部分执行的，该模块包括晶片表面准备，光致抗蚀剂沉积，掩模和晶片的对准，曝光，显影以及适当的抗蚀剂调节。

光刻加工的标准步骤依次是：脱水烘烤，HMDS底涂，抗蚀剂旋转/喷涂，软烘烤，对准，曝光，后曝光烘烤，显影硬烘烤和脱渣。并非所有的光刻模块都包含所有工艺步骤。根据目前国内光刻加工平台所提供的设备来看，最主要的涉及如下设备：

·Ultratech Stepper 1100（使用前请咨询设备负责人）

·国产紫外光刻机  

·棱镜耦合仪

·k-MAC膜厚仪

·晶片键合机

·氮气烘箱

·电子束曝光机

·纳米压印（紫外）

·纳米压印（热压）

·喷胶机

·等离子去胶机

·M4L 等离子去胶机

·6英寸双面对准光刻机

·STEPPER I7 步进投影式光刻机

·STEPPER I12 步进投影式光刻机

原位芯片提供MEMS代工的光刻加工服务，为全国高校、科研机构提供光刻加工服务。依托苏州纳米所丰富的光刻设备资源，原位芯片自身丰富的代工经验，在光刻加工这块儿，已经形成了自己独有的高效加工优势，未来将服务更多的校企单位，提供更优的光刻加工、MEMS代工服务。