INO的光学薄膜MEMS代工

INO在制造光学薄膜方面的专业知识有三十年的经验。他们使用基于反应性等离子体或离子束辅助蒸发过程的成熟的蒸发技术。基于氧化物，卤素和硫属元素化物的蒸发材料能够覆盖从紫外线到远红外的光谱范围。而且广泛的工具集合使能够在不同类型和尺寸的基板，透镜和光纤上蒸发。

 INO洁净室 图片源自INO

INO的光学薄膜MEMS代工,在光学薄膜（OTF）沉积方面拥有三十年的经验和专业知识，使INO有能力为满足客户的特定需求而开发创新的解决方案。使用INO的光学薄膜仿真工具，可以根据客户的确切要求设计复杂的多层结构，例如高反射器，二向色滤光片，带通滤光片和宽带抗反射涂层。另外，凭借我们的光学测量功能（分光光度法，椭圆光度法，FTIR光谱法，显微镜法和轮廓线法测量），我们能够全面表征我们薄膜的光学特性，从UV（200 nm）到远红外（650 µm） 。  

INO的光学薄膜MEMS代工，等离子和离子束辅助薄膜沉积系统可在许多不同的基材上提供出色的附着力。它们还会形成薄膜叠堆，其密度通常等于或大于原材料，能够抵抗低温并具有较高的光学损伤阈值。使用反应性气相进行物理蒸发可产生高蒸发速率，以制造厚而复杂的烟囱。可以将热量整合到工艺中，以优化由此沉积的薄膜的所需性能。以光学方式或使用晶体监控过程，可以更轻松地控制薄膜的厚度，并实现连续的高容量蒸发，以形成用于复杂设计的多个堆叠。用于固定基材的系统可确保复杂形状和直径最大20厘米（8英寸）的表面上的均匀性。使用硫族化物和卤素时，需要特定的程序和设备，以安全地存储，处理，蒸发和表征这些有毒物质。