掩模版/光刻版主要分类有哪些 | 器件设计与加工

掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。

掩模版本身也是一个维系加工过程。它涉及曝光、显影、刻蚀等工艺过程。掩模的曝光用扫描激光束完成。经过曝光显影后的镀铬玻璃板一般经过湿法酸腐蚀去除暴露的铬层，从而形成掩膜图形。

掩膜制版以图层（layer）为单位。一个版图文件中可以绘制多个图层，但一块掩膜版只能对应其中某一个图层上的图形，无法将多个图层同时曝光在一块掩膜版上，也无法将单一图层割裂、只曝光其中部分图形结构。

如果需要制作多个掩膜版，并且其图形之间存在套刻关系，建议将各掩膜版上的图形绘制在同一版图文件的不同图层上，并设计统一大小的边框。各层图形的位置需根据套刻关系严格对应，并设置相应的套刻标记，以方便制版之后的光刻操作。

掩膜版按用途分类可分为4种，分别为铬版、干版、液体凸版和菲林。其中，铬版精度最高，耐用性更好，广泛应用于平板显示、IC、印刷线路板和精细电子元器件行业；干版、液体凸版和菲林主要用于中低精度LCD行业、PCB及IC载板等行业。

掩膜版根据基板材质的不同可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。石英掩膜版是使用石英玻璃作为基板材料，光学透过率高，热膨胀率低，相比苏打玻璃更为平整耐磨，使用寿命长，主要用于高精度掩膜版；苏打掩膜版则是使用苏打玻璃作为基板材料，光学透过率较高，热膨胀率相对高于石英玻璃，平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版；而凸版使用不饱和聚丁二烯树脂作为基板材料，主要用于液晶显示器（LCD）制造过程中的定向材料移印；菲林使用PET作为基板材料，主要用于电路板掩膜。

光刻掩模板应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用，主要用于集成电路(IC)、平板显示器（FPD）、印刷电路板（PCB）、微机电系统（MEMS）等领域。

原位芯片提供的高精度掩模版制作，可定制图形、可批量生产以及通孔良率高，具体可参考下表：