光刻加工中需要注意哪几点？

光刻加工在微纳加工是非常常见的一步重要且接触的加工工艺。工艺工程师除了要拥有丰富的加工经验，在晶圆光刻加工中需要主要很多细节，大致如下:

1、模板制造：在光刻加工中过程中，需要使用光刻模板将电路图案投射到芯片表面上。制造高质量的模板需要非常高的精度和耐用性，同时也需要考虑成本和制造时间。

2、芯片表面平整度：芯片表面的平整度对光刻机的性能和精度有很大影响。制造芯片的过程中可能会出现表面不平整的情况，这会影响到光刻图案的精度和质量。

4、分辨率：高分辨率是光刻机的关键特性，它决定了在制造小尺寸芯片时能够精确绘制复杂电路图案的能力。为了实现高分辨率，需要使用精细的光刻技术和优质的光刻光源。

5、光学成像系统：光刻机使用光学成像系统将光刻图案投射到芯片表面上，这些成像系统需要具备非常高的分辨率和清晰度，以便在复杂的芯片制造过程中保持高精度和高质量。

6、温度控制：光刻机需要在非常精确的温度条件下运行光刻加工，以确保制造出的芯片具有一致的性能和质量。因此，制造光刻机需要考虑温度控制和稳定性的因素。

7、清洁和干燥：光刻过程中，可能会造成mask的污染，因此经常清洁mask是必不可少的。可以使用小棉签、无尘纸，沾IPA清洁。同时干燥步骤也十分重要，需要在清洁后等待一段时间。

8、平整：接触式光刻的另一个要求是sample的平整。高转速到5000rpm可以去除掉光刻胶中可能存在的大颗粒，而提高平整度。样品的夹取也要非常留意是否造成刮伤而降低平整度。另外，清洁的衬底也是平整度的前提。

9、显影和清洗：显影是化学过程，显影后的清洗也是显影的重要部分。

这些是在进行光刻加工时需要注意的一些要点，只有严格遵循这些步骤，才能保证制造出的芯片具有优良的性能和质量。