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Teledyne的MEMS代工--平板印刷和切丁

发布时间:2021-01-23 07:46:09

一些具有经验的MEMS代工工厂都会向客户提供实用的MEMS工具箱。这些工具箱一般包含专利工艺模块和技术,也就是我们常说的解决方案。像Teledyne DALSA与姐妹MEMS代工厂Teledyne Micralyne就会向客户提供这样的解决方案,该MEMS代工解决方案包含150毫米和200毫米生产线上的数十种经过验证的专利工艺模块和技术。对于他们来说,拥有解决方案和掌握的技术都令其感到骄傲和自豪。利用和整合各个代工流程,将突破性的MEMS设计投入生产的能力,可以为客户提供最大价值。

 

Teledyne DALSA拥有200 mm MEMS生产线,可以提供更高的批量生产能力,并支持MEMS与200 mm CMOS晶圆的晶圆级键合。150 mm和200 mm MEMS系列产品具有高度的通用性,如果需要,大多数在150 mm上运行的应用可以转移到200 mm。

 

MEMS代工--平版印刷

前后5倍(ASML)功能0.35 µm,精度0.1 µm

5X前后(ASML)功能0.35 µm,精度0.2 µm

1x前后3.0 µm功能,精度为0.5 µm

1x前后3.0 µm功能,精度0.75 µm

正负抗蚀剂

可光界定的厚聚合物的干膜层压

旋涂薄而厚的光刻胶和光敏聚合物

等离子沉积

PECVD TEOS,氮化物。

 

 

MEMS代工--切丁

自动编带/切块

紫外线衬背和盖带。

离子注入

小电流,大电流

种类:B,BF 2,P,As 能量:30 keV至200 keV

晶圆键合

Si-Si,Si-SiO 2 ,玻璃料,阳极,Al-Ge共晶,聚合物

 

晶圆减薄

背面研磨,CMP,边缘研磨

 

金属化

溅射Al,AlCu,AlSiCu,Ti,TiN,Ge,SiCr

CVD钨

化学镀Ni / Pd,Ni / Au

计量(在线)

ACV4,CD-SEM,椭偏仪,干涉仪

光谱反射仪,surfscan

八月NSX

 

炉子:水平,垂直

湿/干氧化

POCL掺杂

氮化物(包括低应力)

LPCVD氧化物(LTO,SG / PSG,TEOS)

LPCVD硅(多晶,非晶,原位掺杂)

SAM涂层

 

测试

吉时利参数测试仪

MEMs电气,光学和声学测试

MEM的测试开发服务

客户特定的测试系统


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