微纳加工
一些具有经验的MEMS代工工厂都会向客户提供实用的MEMS工具箱。这些工具箱一般包含专利工艺模块和技术,也就是我们常说的解决方案。像Teledyne DALSA与姐妹MEMS代工厂Teledyne Micralyne就会向客户提供这样的解决方案,该MEMS代工解决方案包含150毫米和200毫米生产线上的数十种经过验证的专利工艺模块和技术。对于他们来说,拥有解决方案和掌握的技术都令其感到骄傲和自豪。利用和整合各个代工流程,将突破性的MEMS设计投入生产的能力,可以为客户提供最大价值。
Teledyne DALSA拥有200 mm MEMS生产线,可以提供更高的批量生产能力,并支持MEMS与200 mm CMOS晶圆的晶圆级键合。150 mm和200 mm MEMS系列产品具有高度的通用性,如果需要,大多数在150 mm上运行的应用可以转移到200 mm。
前后5倍(ASML)功能0.35 µm,精度0.1 µm
5X前后(ASML)功能0.35 µm,精度0.2 µm
1x前后3.0 µm功能,精度为0.5 µm
1x前后3.0 µm功能,精度0.75 µm
正负抗蚀剂
可光界定的厚聚合物的干膜层压
旋涂薄而厚的光刻胶和光敏聚合物
等离子沉积
PECVD TEOS,氮化物。
自动编带/切块
紫外线衬背和盖带。
离子注入
小电流,大电流
种类:B,BF 2,P,As 能量:30 keV至200 keV
晶圆键合
Si-Si,Si-SiO 2 ,玻璃料,阳极,Al-Ge共晶,聚合物
晶圆减薄
背面研磨,CMP,边缘研磨
金属化
溅射Al,AlCu,AlSiCu,Ti,TiN,Ge,SiCr
CVD钨
化学镀Ni / Pd,Ni / Au
计量(在线)
ACV4,CD-SEM,椭偏仪,干涉仪
光谱反射仪,surfscan
八月NSX
炉子:水平,垂直
湿/干氧化
POCL掺杂
氮化物(包括低应力)
LPCVD氧化物(LTO,SG / PSG,TEOS)
LPCVD硅(多晶,非晶,原位掺杂)
SAM涂层
测试
吉时利参数测试仪
MEMs电气,光学和声学测试
MEM的测试开发服务
客户特定的测试系统
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