掩膜版和掩膜板有区别吗？

掩膜版和掩膜板在半导体制造中虽然都起着重要作用，但它们的功能和定义确实存在一些区别。

掩膜版，也被称为光掩模板、掩模板、光学掩模板等，是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。它是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，主要用于集成电路(IC)、平板显示器(FPD)、印刷电路板(PCB)、微机电系统(MEMS)等领域。掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成，其性能对光刻有着重要影响。掩膜版是光刻过程中的重要部件，通过光刻将设计图形转移到光刻胶上，再经过刻蚀将图形刻到衬底上，实现图形到硅片的转移。

而掩膜板则是用于芯片加工的光刻模板，是在工艺制程中处理晶圆的关键工具。它可以被看作是掩膜版的载体，由掩膜版转录而来，是在光刻制程中使用的光学元件。掩膜板上的图形决定了在晶圆上形成的芯片器件的结构和电路连接方式。