当前位置：首页 > 产品中心 > MEMS代工

光刻加工

光刻加工

光刻加工是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用曝光和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻......

镀膜工艺

镀膜工艺

真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或非金属以气相的形式沉积到材料表面，形成一层致密的薄膜。镀膜质量对半导体器件的功能形成至关重要。......

刻蚀工艺

刻蚀工艺

刻蚀（Etch）是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的......

键合工艺

键合工艺

键合将两片表面清洁、原子级平整的同质或异质半导体材料经表面清洗和活化处理，在一定条件下直接结合，通过范德华力、分子力甚至原子力使晶片键合成为一体的技术。键......

PI工艺

PI工艺

聚酰亚胺（PI）由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(DDE)在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。聚酰亚胺具有优良的耐高低温、电气绝缘性、粘结性、耐介......

PDMS工艺

PDMS工艺

PDMS（聚二甲基硅氧烷），PDMS易于加工，具有良好的化学惰性，光学透性好，成本低，是一种广泛用于微流控等领域的聚合物材料。原位芯片提供多种微流控模板，微流控器件的制作，为......

TSV通孔

TSV通孔

TSV技术（穿透硅通孔技术），一般简称硅通孔技术，是三维集成电路中堆叠芯片实现互连的一种新的技术解决方案。TSV能够使芯片在三维方向堆叠的密度最大、芯片之间的互连线......

光刻掩膜版

光刻掩膜版

光刻掩膜版简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片......

离子注入

离子注入

离子注入是一种元素的离子被加速进入固体目标，从而改变目标的物理、化学或电学特性。离子注入是迄今为止将掺杂剂原子引入硅衬底的最重要的方式，也是这里讨论的唯一......

总数：11 1 2 下一页尾页页次：1/2

推荐文章MORE

微纳加工平台现状和展望

微纳加工

微纳加工依靠MEMS发展而发展迅猛

微纳加工

微纳加工模式的好处

微纳加工

苏州原位芯片科技有限责任公司©版权所有苏ICP备15018093号-6 苏公网安备 32059002002439号网站地图

一键拨号

业务咨询小原

在线留言