掩膜版的功能

掩膜版，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，在微电子制造过程中扮演着图形转移工具或母版的角色。掩膜版是下游行业产品制造过程中的图形“底片”，承载着图形设计和工艺技术等知识产权信息。其功能主要体现在以下几个方面：

1、图形转移：掩膜版在光刻过程中，通过曝光的方式将设计者的电路图形转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现图形的精确复制和批量化生产。掩膜版作为光刻复制图形的基准和蓝本，是连接工业设计和工艺制造的关键。

2、选择性覆膜和光刻制造：在IC制片中，掩膜版主要起到选择性覆膜和光刻制造功能，为芯片的制造提供保护和支持。通过光刻，将掩膜版上的设计图形转移到光刻胶上，再经过刻蚀，将图形刻到衬底上，从而实现图形到硅片的转移。

3、定义和隔离功能：在PCB制造中，掩膜版被用来定义电路板的网络，起到隔离和保护作用。这有助于确保电路板的正常工作和稳定性。

4、增加电极和像素：在LCD液晶显示屏的制造中，掩膜版主要用于增加电极和像素，以提高显示质量和性能。

掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。因此，掩膜版在半导体、光电、电子等行业中具有广泛的应用，并且在工业、电子、光电等领域，掩膜版的应用将具有更为广阔的发展前景。